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Polished-Surface Al2O3 Ceramic Wafer Chuck Mirror Finish Alumina Vacuum Grade for Semiconductor Processing Equipment

Name: Polished-Surface Al2O3 Ceramic Wafer Chuck Mirror Finish Alumina Vacuum Grade for Semiconductor Processing Equipment
Brand: Wuxi Special Ceramic Electrical Co.,Ltd
SKU: WS-AL-PS14
Price: 95.00 USD
Availability: InStock

Detalhes do produto

Lugar de origem: Jiangsu, China

Marca: Wuxi Special Ceramic

Certificação: ISO 9001:2015

Número do modelo: WS-AL-PS14

Termos de pagamento e envio

Quantidade de ordem mínima: 10 peças

Preço: US$10~US$180/Piece

Detalhes da embalagem: Caixas de exportação com inserções de espuma, paletizadas para frete marítimo ou aéreo

Tempo de entrega: 15-30 dias após a confirmação

Termos de pagamento: T/T, L/C, Western Union

Habilidade da fonte: 100.000 peças por mês

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Conteúdo de alumina:	99,5% Al2O3	Acabamento de superfície:	Espelho polido
Rugosidade superficial:	Ra 0,02 hum	Grau de Pureza:	Grau de vácuo
Densidade:	3,92g/cm3	Cor:	Marfim
Aplicativo:	Equipamento de processamento de semicondutores	temperatura máxima do uso:	1700 graus C

Conteúdo de alumina:	99,5% Al2O3
Acabamento de superfície:	Espelho polido
Rugosidade superficial:	Ra 0,02 hum
Grau de Pureza:	Grau de vácuo
Densidade:	3,92g/cm3
Cor:	Marfim
Aplicativo:	Equipamento de processamento de semicondutores
temperatura máxima do uso:	1700 graus C

Polished-Surface Al2O3 Ceramic Wafer Chuck Mirror Finish Alumina Vacuum Grade for Semiconductor Processing Equipment

In semiconductor processing, the surface that touches the wafer must be perfect: smooth enough to avoid particle trapping, clean enough to avoid contamination, and stable enough to hold wafers flat at process temperature. Our Polished-Surface Al2O3 Ceramic Wafer Chucks are pressed and sintered from vacuum grade 99.5% alumina, then ground and polished to a mirror finish with roughness down to 0.02 microns Ra. The dense, non-porous surface releases wafers cleanly, resists the

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